FUJIFILM XF 33mm F1.4 R LM WR

De Fujifilm XF 33mm f/1.4 R LM WR is een prime-objectief waarmee je de mooiste portretten vastlegt.

De lensconstructie bestaat uit 15 elementen in 10 groepen, waarbij twee asferisch en drie ED-lenselementen aanwezig zijn om aberraties te verminderen. Het objectief beschikt ook over een snel en stil autofocussysteem.

De XF 33mm is stof- en weersbestendig en is bestand tegen temperaturen tot -10° Celsius. Je kunt dus zonder problemen dit objectief in extreme omstandigheden gebruiken.

Eigenschappen van de FUJIFILM XF 33mm F1.4 R LM WR

• Geschikt voor onder andere portretfotografie
• Fujifilm X-lensvatting
• Vast brandpuntsafstand van 33mm
• Diafragmabereik van f/1.4 tot f/16
• Snelle en stille autofocusmotor
• Prachtige bokeh
• Voorzien van twee asferisch en drie ED-lenselementen
• Filtermaat van 58mm
• Gewicht van 360 gram